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…ばれておりますが、その中の様々な場面で、化学反応を利用した加工がなされており、当社グループの製品は主にウェハの表面上に薄膜を化学反応を用いて堆積させる「CVD」、薄膜の不必要な部分を腐食させて削り取る「エッチング」、ウェハ上にトランジスタ(注２)やダイオード(注３)等を作るためにウェ…

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…用途：半導体ウェハー、スマートフォン、カメラモジュール（ハード反射防止膜、IRカットフィルタ）、生体認証（N-IRフィルタ）プラズマ原子層堆積装置（ALDER）原子層堆積（ALD）方式膜性能：反射防止膜、保護膜主な用途：スマートフォンカメラモジュール（反射防止膜）、リ…

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第５【経理の状況】１．財務諸表の作成方法について当社の財務諸表は、「財務諸表等の用語、様式及び作成方法に関する規則」（昭和38年大蔵省令第59号）に基づいて作成しております。２．監査証明について当社は、金融商品取引法第193条の２第１項の規定に基づき、事業年度（2024年

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…金属原子を付着させて成膜する装置。ＣＶＤ装置つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。エッチング装置真空中に被エッチング材料を入れ、その材料に合わせてエッチングガスを導入しプラズマ化し、エッチング種が被エッチン…

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３【事業の内容】 (１) 当社グループについて当社グループは当社と連結子会社１社で構成されており、当社は、持株会社として当社グループの経営管理及びそれに付帯又は関連する業務等を行っております。他方、当社グループの主要な事業はいずれも連結子会社である株式会社アクセルスペースにおい

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…試作品等になります。（注）６．アルミ真空蒸着真空内でアルミニウムを加熱して、気化・昇華させ、離れた位置に置かれた基材・基板の表面に付着・堆積させて薄膜を形成する技術のことです。７．真空注型光造形品や切削加工品をマスターモデルにして、シリコーンゴム等の複製用の型を作製します。そ…