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…（Physical Vapor Deposition ; PVD）と、化学的な手法（Chemical Vapor Deposition ; CVD）の２つに分類されます。この内、CVD法のみでダイヤモンドを生成することができます。 CVD法では、ガスを原料として使用し、温度を上げる方法…

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…すが、その中の様々な場面で、化学反応を利用した加工がなされており、当社グループの製品は主にウェハの表面上に薄膜を化学反応を用いて堆積させる「CVD」、薄膜の不必要な部分を腐食させて削り取る「エッチング」、ウェハ上にトランジスタ(注２)やダイオード(注３)等を作るためにウェハの内部に不純…

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第５【経理の状況】１．財務諸表の作成方法について当社の財務諸表は、「財務諸表等の用語、様式及び作成方法に関する規則」（昭和38年大蔵省令第59号）に基づいて作成しております。２．監査証明について当社は、金融商品取引法第193条の２第１項の規定に基づき、事業年度（2024年

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…ンウェーハの回路形成における回路素材となるポリシリコン膜や絶縁膜等の薄膜を形成する工程を指します。当社グループでは、その成膜工程の中でLP-CVD製品のほかに、ALD（注１）に対応した製品を提供しております。一方、「熱処理」工程とは、熱酸化（注２）膜を形成するプロセスや、成膜後に加熱…

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… 主要製品真空機器事業半導体及び電子部品製造装置スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理（自然酸化膜除去等）装置、超高真空装置他ディスプレイ・エネルギー関連製造装置スパッタリング装置、プラズマCVD装置、…

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第５【経理の状況】１．連結財務諸表及び財務諸表の作成方法について（１）当社の連結財務諸表は、「連結財務諸表の用語、様式及び作成方法に関する規則」（昭和51年大蔵省令第28号）に基づいて作成しております。（２）当社の財務諸表は、「財務諸表等の用語、様式及び作成方法に関する規則

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３【事業の内容】当社グループは、当社と子会社等98社（連結子会社80社、持分法適用関連会社13社、持分法非適用非連結子会社５社）により構成されております。当社グループの主な事業内容は、半導体やＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造装置等に使用される真空シール、石英製品、セ

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…／品目製品例特殊黒鉛製品エレクトロニクス分野単結晶シリコン製造用単結晶シリコン引上げ炉用るつぼ、ヒーター化合物半導体製造用 MOCVD装置用サセプター、LPE装置用ボート、SiC結晶成長装置炉内部材太陽電池製造用単結晶・多結晶シリコン製造炉用るつぼ、ヒーター、反射防止…